د EDI الیکټروډیونیزیشن تجهیزات SSY-EDII ریورس اوسموس سیسټم
توضیحات2
د تولید ځانګړتیاوې
د الیکټروډیونیزیشن وسیله، د لنډ لپاره EDI، د ایون تبادلې ټیکنالوژي یو ډول دی. د آیون تبادلې جھلی ټیکنالوژي او د آیون مهاجرت ټیکنالوژي د پاکو اوبو تولید ټیکنالوژۍ سره یوځای کیږي. دا د لوړ ټیکنالوژۍ شنه ټیکنالوژي ده. د الیکټروډیونیزیشن سیسټم په عمده ډول د DC بریښنایی ساحې عمل لاندې دی ، د حرکت په لور کې د اوبو ډایالټریک ایونونو ویشلو له لارې ، د ایونونو انتخابي پارمیتا کې د تبادلې غشا کارول ترڅو د ساینسي اوبو درملنې ټیکنالوژۍ د اوبو کیفیت پاک کړي. EDI د ionic membranes د اړوندو له منځه وړلو له مخې یوه بشپړه پروسه ده، په اوبو کې د ایونونو جذبولو لپاره د آیون تبادلې کالمونو کمولو کارول. سربیره پردې د DC ولتاژ د عمل لاندې. د قوي اسید او الکالي بیا رغونې پرته په پروسه کې د آئن تبادلې کالم. EDI د پاکولو یوه نوې پروسه ده چې د یو بل سره د الکتروډیلیسز او آئن تبادله ترکیب کوي. دا ټیکنالوژي د بریښنایی بیا تولید د آیون تبادلې د پاکولو پروسه پلي کوي ترڅو د دودیز مخلوط آئن تبادلې د پاکولو پروسې DI ځای په ځای کړي ، د آیون تبادلې رال او انتخابي آیون جھلی له لارې د لوړ پاکولو اغیز ترلاسه کړي ، او د ګډې پروسې سره یوځای ریورس اوسموسس رامینځته کوي ترڅو کیفیت ښه شي. تولید شوي اوبه تر لوړ پاکولو اغیزې پورې. EDI د معیاري برخې ډیزاین غوره کوي د اړتیاو سره سم د سیسټم مختلف مشخصاتو سره یوځای کیدی شي.
د تولیداتو ځانګړتیاوی
1. پرمختللی پروسه. د EDI د اوبو پاکولو تجهیزات د دوامداره اوبو ګټې لري، هیڅ اسید او الکلي بیا تولید او نه لیدل کیږي، او د پاکو اوبو سیسټم په چمتو کولو کې کارول شوي ترڅو په تدریجي ډول مخلوط بستر د ښه درملنې تجهیزاتو په توګه بدل کړي.
2. ښه چاپیریال ځانګړتیاوې. پرمختللې ټیکنالوژي د ښه چاپیریال ځانګړتیاو سره ، د چلولو او کارولو لپاره اسانه ، د خلکو لخوا ډیر پیژندل شوي ، مګر د درملو ، بریښنایی ، بریښنایی بریښنا ، کیمیاوي او نورو صنعتونو کې هم په پراخه کچه وده کوي.
3. مستقیم پاکول. د RO osmosis د اوبو په کارولو کې د 97 ~ 99٪ د آئنونو ځای لرې کولو لپاره، EDI کولی شي په مستقیم ډول د osmosis د اوبو پاکولو لپاره پاکو اوبو ته، د لوړ پاکوالي اوبه، د الټرا پاکو اوبو معیارونو، پرته د آیون تبادلې مخلوط بسترونو کارولو پرته، او د تولید شوي اوبو مقاومت تر 18.25MΩ-cm پورې.
4. سیسټم د وارد شوي دوه مرحلې ریورس اوسموسس او په بشپړ ډول اتوماتیک PLC پروګرام وړ ذہین کنټرول سیسټم سره سمبال شوی.